Preparation and characterization of thick layers of semiconductors oxides for gas chemisorption and detection - Laboratoire de l'intégration, du matériau au système TOUS LABOS Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 1987

Preparation and characterization of thick layers of semiconductors oxides for gas chemisorption and detection

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00203842 , version 1 (11-01-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00203842 , version 1

Citer

Claude Lucat, Francis Menil, M. Destriau, J. Salardenne, J. Portier. Preparation and characterization of thick layers of semiconductors oxides for gas chemisorption and detection. Preparation of Catalysts IV, 1987, Belgium. pp.1. ⟨hal-00203842⟩
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