Mécanisme de croissance et formation des défauts dans les couches minces en microscopie et diffraction électroniques - Laboratoire Interfaces et Systèmes Electrochimiques Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Revue de Physique Appliquée Année : 1980

Mécanisme de croissance et formation des défauts dans les couches minces en microscopie et diffraction électroniques

Résumé

On étudie la formation des dislocations, défauts d'empilements, parois de double positionnement, macles... en se rattachant au mécanisme de nucléation et de croissance. On examine plus particulièrement le cas des dislocations interfaciales lors de la croissance couche par couche. Dans le cas de la nucléation tridimensionnelle, on étudie les défauts formés par la coalescence des îlots. La nucléation d'agrégats paracristallins se transformant en cristallites multimaclés est aussi considérée. On montre que ces arrangements de macles sont très importants pour la formation de couches à structures dendritique ou texturée.
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jpa-00244725 , version 1 (04-02-2008)

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Citer

Michel Froment. Mécanisme de croissance et formation des défauts dans les couches minces en microscopie et diffraction électroniques. Revue de Physique Appliquée, 1980, 15 (2), pp.271-276. ⟨10.1051/rphysap:01980001502027100⟩. ⟨jpa-00244725⟩
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