Electrical characteristics of TiTaO thin films deposited on SiO2/Si substrates by magnetron sputtering - Laboratoire des Sciences des Procédés et des Matériaux Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue ECS Solid State Letters Année : 2013

Electrical characteristics of TiTaO thin films deposited on SiO2/Si substrates by magnetron sputtering

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00772702 , version 1 (11-01-2013)

Identifiants

Citer

Siamak Salimy, Fatiha Challali, Antoine Goullet, Marie-Paule Besland, Michèle Carette, et al.. Electrical characteristics of TiTaO thin films deposited on SiO2/Si substrates by magnetron sputtering. ECS Solid State Letters, 2013, pp.2 (3) Q1-Q3 (2013). ⟨10.1149/2.006303ssl⟩. ⟨hal-00772702⟩
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