Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Patrick Schiavone : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00023202
Soumis le : vendredi 21 avril 2006-10:26:22
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:28
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00023202 , version 1
Citer
Amandine Jouve, Vincent Farys, David Fuard, Patrick Schiavone, Patrick Naulleau. EUV Lithography simulation with rigorous mask computation and simplified resist models. MNE05 Conference, 2005, Vienna, Austria. ⟨hal-00023202⟩
154
Consultations
0
Téléchargements