EUV Lithography simulation with rigorous mask computation and simplified resist models - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2005
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00023202 , version 1 (21-04-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00023202 , version 1

Citer

Amandine Jouve, Vincent Farys, David Fuard, Patrick Schiavone, Patrick Naulleau. EUV Lithography simulation with rigorous mask computation and simplified resist models. MNE05 Conference, 2005, Vienna, Austria. ⟨hal-00023202⟩
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