Using scatterometry for 3D-feature metrology: application to Nano-Imprint Lithography - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Using scatterometry for 3D-feature metrology: application to Nano-Imprint Lithography

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00023229 , version 1 (21-04-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00023229 , version 1

Citer

Rafik Smaali, David Fuard, Corinne Perret, Patrick Schiavone. Using scatterometry for 3D-feature metrology: application to Nano-Imprint Lithography. Nanoprint Nanoimprint Technology 05 Conference, 2005, Nara, Japan. ⟨hal-00023229⟩

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