Integration of Schottky source/drain in advanced MOS technology : the SODAMOS project - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2004

Integration of Schottky source/drain in advanced MOS technology : the SODAMOS project

Guilhem Larrieu
Xavier Baie
  • Fonction : Auteur
Xing Tang
  • Fonction : Auteur
N. Recklinger
  • Fonction : Auteur
Vincent Bayot
  • Fonction : Auteur
E. Robilliart
  • Fonction : Auteur
B. Froment
  • Fonction : Auteur
J. Katcki
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00141008 , version 1 (11-04-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00141008 , version 1

Citer

Emmanuel Dubois, Christophe Krzeminski, Guilhem Larrieu, Xavier Baie, Xing Tang, et al.. Integration of Schottky source/drain in advanced MOS technology : the SODAMOS project. 13th Melari/NID Workshop, 2004, Athens, Greece. ⟨hal-00141008⟩
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