Overcoming pattern collapse on e-beam and euv lithography - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2006

Overcoming pattern collapse on e-beam and euv lithography

A. Jouve
  • Fonction : Auteur
A. Pikon
  • Fonction : Auteur
H. Solak
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00394515 , version 1 (11-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00394515 , version 1

Citer

A. Jouve, A. Pikon, H. Solak, J.H. Tortai. Overcoming pattern collapse on e-beam and euv lithography. SPIE, 2006, United States. pp.vol 6153, 61531C. ⟨hal-00394515⟩
45 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More