Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2005
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397051
Soumis le : vendredi 19 juin 2009-14:20:29
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:43
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00397051 , version 1
Citer
J. Thiault, J. Foucher, J.H. Tortai, O. Joubert, S. Landis, et al.. Line edge roughness characterization with a three dimensional atomic force microscope: Transfer during gate patterning processes. Journal of Vacuum Science and Technology, 2005, pp.B 23 3075-3079. ⟨hal-00397051⟩
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