Exploration of ultimate gate patterning technologies: lithography and plasma etching - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Exploration of ultimate gate patterning technologies: lithography and plasma etching

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00398852 , version 1 (25-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00398852 , version 1

Citer

J. Thiault, J. Foucher, J.H. Tortai, G. Cunge, O. Joubert, et al.. Exploration of ultimate gate patterning technologies: lithography and plasma etching. 15th International Colloquium on Plasma Processes (CIP), 2005, autrans, France. ⟨hal-00398852⟩
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