Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00398852
Soumis le : jeudi 25 juin 2009-09:10:35
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:28
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00398852 , version 1
Citer
J. Thiault, J. Foucher, J.H. Tortai, G. Cunge, O. Joubert, et al.. Exploration of ultimate gate patterning technologies: lithography and plasma etching. 15th International Colloquium on Plasma Processes (CIP), 2005, autrans, France. ⟨hal-00398852⟩
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