Modeling of ultra thin resist films structure after spin-coating and post-applied bake - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2004

Modeling of ultra thin resist films structure after spin-coating and post-applied bake

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00477274 , version 1 (28-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00477274 , version 1

Citer

J.H. Tortai. Modeling of ultra thin resist films structure after spin-coating and post-applied bake. Microelectronic Engineering, 2004, Volumes 73-74, pp.Pages 223-227. ⟨hal-00477274⟩
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