Communication Dans Un Congrès
Année : 2012
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00807431
Soumis le : mercredi 3 avril 2013-15:05:47
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:14
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00807431 , version 1
Citer
P. Schiavone, T. Figueiro, M. Saib, J.H Tortai, K.H Choi, et al.. Enhanced model calibration for e-beam lithography: from pattern selection to parameter optimization. 10th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop, Sep 2012, Hersbruck, Germany. ⟨hal-00807431⟩
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