Article Dans Une Revue
Proc. SPIE 8880, Photomask Technology 2013
Année : 2013
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https://hal.science/hal-00936973
Soumis le : lundi 27 janvier 2014-16:19:17
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:19:51
Citer
T. Figueiro, M. Saib, K.-H. Choi, C. Hohle, M. J. Thornton, et al.. Metrology variability and its impact in process modeling. Proc. SPIE 8880, Photomask Technology 2013, 2013, pp.888020. ⟨10.1117/12.2026423⟩. ⟨hal-00936973⟩
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