Patterned silicon substrates: A common platform for room temperature GaN and ZnO polariton lasers - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2014

Patterned silicon substrates: A common platform for room temperature GaN and ZnO polariton lasers

E. Mallet
  • Fonction : Auteur
Rereao Hahe
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 964966
Christelle Brimont
Pierre Disseix
Thierry Guillet
O. Jamadi
  • Fonction : Auteur
Joël Leymarie
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 835166

Résumé

A platform for fabricating polariton lasers operating at room temperature is introduced: nitride-based distributed Bragg reflectors epitaxially grown on patterned silicon substrates. The patterning allows for an enhanced strain relaxation, thereby enabling to stack a large number of crack-free AlN/AlGaN pairs and achieve cavity quality factors of several thousands with a large spatial homogeneity. GaN and ZnO active regions are epitaxially grown thereon, and the cavities are completed with top dielectric Bragg reflectors. The two structures display strong-coupling and polariton lasing at room temperature and constitute an intermediate step in the way towards integrated polariton devices.
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Patterned silicon substrates_1404.7743.pdf (925.72 Ko) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-01131005 , version 1 (03-06-2021)

Identifiants

Citer

Jesús Zúñiga-Pérez, E. Mallet, Rereao Hahe, M.J. Rashid, Sophie Bouchoule, et al.. Patterned silicon substrates: A common platform for room temperature GaN and ZnO polariton lasers. Applied Physics Letters, 2014, 104, pp.241113. ⟨10.1063/1.4884120⟩. ⟨hal-01131005⟩
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