Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science & Technology A
Année : 2019
Erwine Pargon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02145902
Soumis le : lundi 3 juin 2019-14:04:56
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:53:28
Citer
Erwine Pargon, Camille Petit-Etienne, Laurène Youssef, Gaspard Thomachot, Sylvain David. New route for selective etching in remote plasma source: Application to the fabrication of horizontal stacked Si nanowires for gate all around devices. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2019, 37 (4), pp.040601. ⟨10.1116/1.5100087⟩. ⟨hal-02145902⟩
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