Article Dans Une Revue
MRS Advances
Année : 2019
Richard BASCHERA : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02187840
Soumis le : jeudi 18 juillet 2019-10:31:23
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12
Citer
Mohammad Rammal, Ahmed Rhallabi, Delphine Néel, Dalila Make, Alexandre Shen, et al.. AlN Etching under ICP Cl 2 /BCl 3 /Ar Plasma Mixture: Experimental Characterization and Plasma Kinetic Model. MRS Advances, 2019, 4 (27), pp.1579-1587. ⟨10.1557/adv.2019.84⟩. ⟨hal-02187840⟩
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