Article Dans Une Revue
Reactive and Functional Polymers
Année : 2018
REDOUANE BORSALI : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://cnrs.hal.science/hal-02954615
Soumis le : jeudi 1 octobre 2020-11:05:26
Dernière modification le : mercredi 16 décembre 2020-08:56:05
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02954615 , version 1
- DOI : 10.1016/j.reactfunctpolym.2018.08.010
Citer
Fang-Cheng Liang, Yi-Hsing Huang, Chi-Ching Kuo, Chia-Jung Cho, Syang-Peng Rwei, et al.. Thermally deposited silk fibroin as the gate dielectric layer in organic thin-film transistors based on conjugated polymer. Reactive and Functional Polymers, 2018, 131, pp.368-377. ⟨10.1016/j.reactfunctpolym.2018.08.010⟩. ⟨hal-02954615⟩
Collections
15
Consultations
0
Téléchargements