XPS, ToF SIMS and wettability analyses on Ni surfaces after Ar-H2 RF plasma treatment: An efficient and optimized plasma treatment approach - CNRS - Centre national de la recherche scientifique
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2020

XPS, ToF SIMS and wettability analyses on Ni surfaces after Ar-H2 RF plasma treatment: An efficient and optimized plasma treatment approach

L. Vivet
R. Benoit
Institut de Combustion, Aérothermique, Réactivité et Environnement
CV
M.F. Falzon
  • Fonction : Auteur
Hutchinson SA
K.-L. Tan
  • Fonction : Auteur
D. Dorairaj
  • Fonction : Auteur
J.-M. Morelle
  • Fonction : Auteur

Domaines

Chimie

Roland BENOIT  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://cnrs.hal.science/hal-03880604

Soumis le : jeudi 1 décembre 2022-11:29:42

Dernière modification le : mardi 17 septembre 2024-11:40:03

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Dates et versions

hal-03880604 , version 1 (01-12-2022)

Identifiants

Citer

L. Vivet, R. Benoit, M.F. Falzon, K.-L. Tan, D. Dorairaj, et al.. XPS, ToF SIMS and wettability analyses on Ni surfaces after Ar-H2 RF plasma treatment: An efficient and optimized plasma treatment approach. Surface and Coatings Technology, 2020, 398, pp.126094. ⟨10.1016/j.surfcoat.2020.126094⟩. ⟨hal-03880604⟩

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