Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Controlled nanopatterning and plasma etching of sub-100 nm nanopillars for low dislocation density of pendeo-epitaxy GaN: Towards MicroDisplays,

S. Hammami
  • Fonction : Auteur
K. Baril
  • Fonction : Auteur
M. Wehbe
  • Fonction : Auteur
B. Alloing
  • Fonction : Auteur
M. Charles
  • Fonction : Auteur
J. Zuniga Perez
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04624769 , version 1 (25-06-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04624769 , version 1

Citer

N. Labchir, S. Hammami, K. Baril, M. Wehbe, S. Labau, et al.. Controlled nanopatterning and plasma etching of sub-100 nm nanopillars for low dislocation density of pendeo-epitaxy GaN: Towards MicroDisplays,. SPIE Conference: Gallium Nitride Materials and Devices XVIII, Jan 2023, San Francisco, USA, United States. ⟨hal-04624769⟩
15 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More