Laser thermal processing for ultra shallow junction formation: numerical simulation and comparison with experiments
M. Hernandez
(1)
,
J. Venturini
,
D. Zahorski
,
J. Boulmer
(2)
,
D. Débarre
(2)
,
G. Kerrien
(3)
,
T. Sarnet
(4)
,
C. Laviron
(5)
,
M.N. Semeria
,
D. Camel
(6)
,
J.L. Santailler
(5)
1
IOTA/ES -
International Occultation Timing Association, European Section
2 IEF - Institut d'électronique fondamentale
3 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
4 CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique
5 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
6 CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives
2 IEF - Institut d'électronique fondamentale
3 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
4 CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique
5 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
6 CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives
J. Venturini
- Function : Author
D. Zahorski
- Function : Author
T. Sarnet
- Function : Author
- PersonId : 750532
- IdHAL : sarnet
- ORCID : 0000-0002-2399-3768
M.N. Semeria
- Function : Author