Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Study on plasma immersion ion implantation and laser annealing for sulphur hyperdoped black silicon

M.I. Sanchez
  • Fonction : Auteur
G. Coustillier
  • Fonction : Auteur
Y. Spiegel
  • Fonction : Auteur
T. Robert
  • Fonction : Auteur
F. Torregrosa
  • Fonction : Auteur
P. Delaporte
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04844175 , version 1 (17-12-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04844175 , version 1

Citer

T. Sarnet, M.I. Sanchez, G. Coustillier, Y. Spiegel, T. Robert, et al.. Study on plasma immersion ion implantation and laser annealing for sulphur hyperdoped black silicon. International High Power Laser Ablation (HPLA 2016), Claude Phipps, Apr 2016, Santa Fe (NM), United States. ⟨hal-04844175⟩
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