Communication Dans Un Congrès
Année : 2016
Thierry Sarnet : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://cnrs.hal.science/hal-04844175
Soumis le : mardi 17 décembre 2024-18:00:42
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-03:20:21
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04844175 , version 1
Citer
T. Sarnet, M.I. Sanchez, G. Coustillier, Y. Spiegel, T. Robert, et al.. Study on plasma immersion ion implantation and laser annealing for sulphur hyperdoped black silicon. International High Power Laser Ablation (HPLA 2016), Claude Phipps, Apr 2016, Santa Fe (NM), United States. ⟨hal-04844175⟩
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