A DfT Solution for Oxide Thickness Varitions in ATMEL eFlash Technology - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

A DfT Solution for Oxide Thickness Varitions in ATMEL eFlash Technology

Fichier non déposé

Dates et versions

lirmm-00647750 , version 1 (02-12-2011)

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00647750 , version 1

Citer

Pierre-Didier Mauroux, Arnaud Virazel, Alberto Bosio, Luigi Dilillo, Patrick Girard, et al.. A DfT Solution for Oxide Thickness Varitions in ATMEL eFlash Technology. DTIS: Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era, 2011, Athènes, Greece. ⟨lirmm-00647750⟩
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