Role of Temperature, Pressure, and Surface Oxygen Migration in the Initial Atomic Layer Deposition of HfO 2 on Anatase TiO 2 (101) - Laboratoire de Chimie Physique-Matière et Rayonnement Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physical Chemistry C Année : 2022

Role of Temperature, Pressure, and Surface Oxygen Migration in the Initial Atomic Layer Deposition of HfO 2 on Anatase TiO 2 (101)

Dates et versions

hal-03884304 , version 1 (05-12-2022)

Identifiants

Citer

Giulio D’acunto, Rosemary Jones, Lucía Pérez Ramírez, Payam Shayesteh, Esko Kokkonen, et al.. Role of Temperature, Pressure, and Surface Oxygen Migration in the Initial Atomic Layer Deposition of HfO 2 on Anatase TiO 2 (101). Journal of Physical Chemistry C, 2022, 126 (29), pp.12210-12221. ⟨10.1021/acs.jpcc.2c02683⟩. ⟨hal-03884304⟩
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