Oligosaccharide/silicon-containing block copolymers for lithography applications - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Brevet Année : 2012

Oligosaccharide/silicon-containing block copolymers for lithography applications

Domaines

Polymères
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00955346 , version 1 (04-03-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00955346 , version 1

Citer

Issei Otsuka, Redouane Borsali, S. Fort, S. Halila, J. Cushen C.G. Willson C. Bates J.A. Easley. Oligosaccharide/silicon-containing block copolymers for lithography applications. Patent n° : WO2012177839. 2012. ⟨hal-00955346⟩
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