Oxidation Process in Ge-Rich GeSbTe Alloy for Phase-Change Memory: Mechanism, Kinetic and N-Doping Influence - CNRS - Centre national de la recherche scientifique Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2020
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03370192 , version 1 (07-10-2021)

Identifiants

Citer

Ludovic Goffart, Christophe Vallée, Gabriele Navarro, Jean-Philippe Reynard, Bernard Pelissier, et al.. Oxidation Process in Ge-Rich GeSbTe Alloy for Phase-Change Memory: Mechanism, Kinetic and N-Doping Influence. ECS PRiME 2020, Oct 2020, Hawaï, United States. pp.1358-1358, ⟨10.1149/ma2020-02141358mtgabs⟩. ⟨hal-03370192⟩
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