Article Dans Une Revue
Materials Science in Semiconductor Processing
Année : 2023
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://cnrs.hal.science/hal-04216887
Soumis le : lundi 25 septembre 2023-13:42:08
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:53:10
Citer
Lucas Jaloustre, Valentin Ackermann, Saron Sales de Mello, Sébastien Labau, Camille Petit-Etienne, et al.. Preferential crystal orientation etching of GaN nanopillars in Cl2 plasma. Materials Science in Semiconductor Processing, 2023, 165, pp.107654. ⟨10.1016/j.mssp.2023.107654⟩. ⟨hal-04216887⟩
11
Consultations
0
Téléchargements