Silicide formation during reaction between Ni ultra-thin films and Si(001) substrates - INSTITUT DE CHIMIE DES MILIEUX ET MATERIAUX DE POITIERS Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Letters Année : 2014

Silicide formation during reaction between Ni ultra-thin films and Si(001) substrates

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01331208 , version 1 (13-06-2016)

Identifiants

Citer

J. Fouet, M. Texier, M.-I. Richard, A. Portavoce, Dominique Mangelinck, et al.. Silicide formation during reaction between Ni ultra-thin films and Si(001) substrates. Materials Letters, 2014, 116, pp.139-142. ⟨10.1016/j.matlet.2013.10.119⟩. ⟨hal-01331208⟩
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