Near Ambient Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of the Atomic Layer Deposition of TiO 2 on RuO 2 (110) - Laboratoire de Chimie Physique-Matière et Rayonnement Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physical Chemistry C Année : 2016
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Dates et versions

hal-03964334 , version 1 (31-01-2023)

Identifiants

Citer

Ashley Head, Shilpi Chaudhary, Giorgia Olivieri, Fabrice Bournel, Jesper Andersen, et al.. Near Ambient Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of the Atomic Layer Deposition of TiO 2 on RuO 2 (110). Journal of Physical Chemistry C, 2016, 120 (1), pp.243-251. ⟨10.1021/acs.jpcc.5b08699⟩. ⟨hal-03964334⟩
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